🔦 전공정1_노광 (Photo)

1. 공정 정의

• 빛을 이용해 반도체 웨이퍼 위에 미세한 회로 패턴(밑그림)을 형성하는 공정입니다.

2. 핵심 기술

• EUV (극자외선): 7나노 이하 미세 공정의 필수 기술 (슈퍼을 ASML 독점 장비)
• 감광액 (PR): 빛에 반응하여 회로를 남기는 화학 물질

3. 관련 기업 (증거금 20%)

• 동진쎄미켐 (감광액 국산화 선두)
• 에프에스티 (EUV 펠리클)
• SNS텍 (블랭크마스크)

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